普通電鍍和pvd電鍍
普通電鍍和PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)電鍍是兩種不同的金屬表面處理技術,它們在原理、應用范圍和特點上都有所不同。普...
2024-05-07 查看詳情18913268389湯生
普通電鍍和PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)電鍍是兩種不同的金屬表面處理技術,它們在原理、應用范圍和特點上都有所不同。普...
2024-05-07 查看詳情真空鍍膜與電鍍膜相比,具有以下幾個顯著的優勢:更高的質量:真空鍍膜過程中,涂層在基材上的粘附性更高,不存在水分、氧氣污染的可能性,并且能夠創造出更為均勻的涂層厚...
2024-04-25 查看詳情PVD鍍膜掉膜問題可能由多種原因引起,包括基材污染、鍍膜材料選擇不當、鍍膜工藝問題等。處理PVD鍍膜掉膜問題的方法需要綜合考慮這些因素,以下是一些建議:檢查基材...
2024-04-24 查看詳情PVD真空鍍膜的技術中有一個磁控濺射法。在實際PVD工藝中有很大的應用。透明導電氧化物薄膜(TCO薄膜)有著廣泛的用途,如作為LCD、OLED顯示器面板的電極,...
2024-04-19 查看詳情PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)加工制品的反面通常指的是未經過PVD處理的一面或者與PVD處理面相對的那一面。其外觀和...
2024-04-17 查看詳情189-1326-8389 在線咨詢
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