PVD鍍膜工藝分類及介紹
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition),簡稱PVD。 PVD鍍膜涂層工藝一般區分為三種,分別是真空蒸發(Vacuum Evap...
2020-08-10 查看詳情18913268389湯生
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition),簡稱PVD。 PVD鍍膜涂層工藝一般區分為三種,分別是真空蒸發(Vacuum Evap...
2020-08-10 查看詳情PVD(Physical Vapor Deposition)技術是制備薄膜材料的主要技術之一,在真空條件下采用物理方法,將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離...
2020-08-09 查看詳情PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物du理氣相沉積”,是指在真空條件下,zhi用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上...
2020-08-08 查看詳情增強型磁控陰極弧:陰極弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電...
2020-08-07 查看詳情真空鍍膜廣泛應用在各個行業當中,其中不乏機械、電子、五金、航空航天、化工等領域,那么PVD鍍膜前與鍍膜后有什么區別,體現在哪里?這么多行業都在使用肯定有它存在的...
2020-08-06 查看詳情pvd真空鍍膜能直接鍍在不銹鋼,鈦、鎢鋼等材質上,但是對鐵、鋅合金、銅等壓鑄件真空鍍膜前應先進行化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD。 PVD鍍膜技術是一種真正...
2020-08-05 查看詳情189-1326-8389 在線咨詢
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