PVD鍍膜材料是用于PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）技術制備薄膜材料的物質。PVD技術是一種在真空條件下，采用物理方法將某種材料氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。

PVD鍍膜材料可以根據不同產品類型分為蒸鍍材料和濺鍍材料。蒸鍍材料是通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。濺鍍技術則是利用離子源產生的離子，在高真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面而形成薄膜材料。

PVD鍍膜材料可以用于制備各種具有特定功能的薄膜材料，應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件、節(jié)能玻璃、LED、工具改性、高檔裝飾用品等。