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18913268389湯生
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精密光學鍍膜加工應用需要薄膜涂層來滿足對折射率、光損耗、厚度、光傳輸和均勻性等因素的非常嚴格的規范。為此,真空鍍膜加工商需要一個配備原位控制的全精密光學鍍膜系統,該系統可直接監控光學特性。
在精密光學真空鍍膜加工過程中,薄膜的可接受誤差范圍非常小。滿足所需的規格對于過濾器尤為重要,因為它會顯著影響性能。例如,激光安全護目鏡旨在阻擋特定波長,同時通過其他波長(“陷波”濾波器)。如果厚度超出規格太遠,被阻擋的波長將錯過激光,使其通過并對最終用戶造成非常嚴重的眼睛損傷。
但是由于這些過濾器的規格如此嚴格,因此很難獲得高產量。這顯然是高通量應用的一個問題,但即使是小規模運行和低通量生產,它也會對擁有成本產生重大影響。為了降低整個系統的擁有成本,建議為系統配置一個可以實時評估關鍵屬性的光學監視器。
厚度是確保精度和性能的最重要屬性之一。在光學真空鍍膜加工過程中有兩種監測厚度的方法:
物理厚度,指涂層本身的實際厚度
光學厚度,以光波長表示鍍層厚度;這是物理厚度乘以特定感興趣波長的折射率
在沉積涂層時,原位光學監測系統 (OMS) 是監測光學厚度的絕佳選擇。OMS 可以確保光學元件滿足性能要求所需的確切規格。
與石英晶體監測 (QCM) 等方法相比,使用 OMS 的一些好處:
卓越的精度:第一個好處是能夠在您的配置中構建高精度的光學特性。這對于多層光學堆棧尤其重要,因為僅通過監測薄膜的物理厚度和特性來測量光傳輸等因素可能是一個挑戰。
實時控制: OMS 可讓您在薄膜沉積過程中控制您的光學鍍膜。通過沉積過程中的準確反饋,您可以立即進行必要的調整以達到薄膜規格,只要您的系統和 OMS 與強大的軟件包集成。
提高產量:高精度和實時調整涂層的能力將提高您系統的整體產量。您將能夠在同一沉積系統上創建更多可用的光學器件,這些光學器件符合非常嚴格但必要的規格,以確保性能。
在真空鍍膜加工過程中進行光學監測時,主要使用兩種方法:直接和間接。
直接監控會在實際基材通過涂層過程時實時監控。
間接監控監控一個單獨的芯片,該芯片也涂覆在同一沉積室內。
在確保非常特定的光學性能的性能方面,直接和間接監測都有利有弊。還有其他方法和因素需要權衡,例如:
單波長與寬帶
透射與反射
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