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18913268389湯生
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PVD真空鍍膜的工藝流程如下:
PVD前清洗:對待鍍物進行表面清潔處理,確保表面光潔度和粗糙度符合要求。
進爐抽真空:將待鍍物和鍍層材料放置在真空室內,進行真空抽氣,以將室內氣體抽出,降低室內壓力,創造真空環境。
洗靶及離子清洗:將所需的鍍層材料制成靶材,進行燒結處理,以提高材料的密度和純度,并保證靶材的穩定性和耐久性。
鍍膜:將靶材放置在鍍膜設備中,并通過電子束、離子束或熱蒸發等方式,將靶材材料轉化為氣態,形成氣體束,沉積在待鍍物表面,形成鍍層。
鍍膜結束,冷卻出爐:鍍膜完成后,待鍍物冷卻后出爐。
后處理(拋光、AFP):根據需要,對鍍層進行拋光、AFP等后處理工藝。
需要注意的是,具體的工藝流程可能會根據不同的鍍膜材料和待鍍物有所不同,因此在實際操作中需要根據具體情況進行調整。
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