PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

　　PVD鍍膜技術(shù)可分為三類(lèi)：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)三大類(lèi)PVD技術(shù)，對(duì)應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備包括真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。

　　近十年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展最快，已成為最先進(jìn)的表表面處理方法之一。所謂PVD鍍膜，是指真空離子鍍膜；PVD涂布機(jī)通常指真空離子涂布機(jī)。

　　PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的具體原理是，在真空條件下，采用低電壓大電流的電弧放電技術(shù)，通過(guò)氣體放電蒸發(fā)靶材，蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體被電離，蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物通過(guò)電場(chǎng)的加速沉積在工件上。采用PVD鍍膜技術(shù)沉積的薄膜具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、良好的耐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，使用壽命更長(zhǎng)。同時(shí)，薄膜層可以大大改善工件的外觀和裝飾性能。

　　PVD涂層技術(shù)

　　是一種真正能獲得微米級(jí)涂層、無(wú)污染的環(huán)保型表表面處理方法。可制備各種單一金屬薄膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等。)，氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TIC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。).PVD鍍膜的厚度為微米級(jí)，且比較薄，一般為0.3m~5m，其中裝飾鍍膜的厚度一般為0.3m~1m，因此幾乎可以在不影響工件原始尺寸的情況下改善工件表表面的各種理化性能，鍍后無(wú)需進(jìn)一步加工。目前，PVD涂料能制作的膜層顏色有深金黃色、淺金黃色、棕色、青銅色、灰色、黑色、灰黑色、七色等。通過(guò)控制涂覆過(guò)程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制涂層的顏色。鍍膜后，可使用相關(guān)儀器測(cè)量顏色，從而量化顏色，以確定鍍后顏色是否符合要求。